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芯片设计中的低电压电路设计与能效优化
1. DRAMææ¯çåå±åçš
DRAMææ¯çåå±åçšæ¯ç°ä»£è®¡ç®æºæ§èœæåçæ žå¿é©±åšåä¹äžãDRAMçæ©æåå±ïŒ1970-1990幎代ïŒïŒ1Kbitå°16MbitçæŒè¿ïŒååšå®¹éçææ°çº§å¢é¿ïŒå¶çšå·¥èºä»åŸ®ç±³çº§å°äºåŸ®ç±³çº§ãDRAMçæçæïŒ2000-2010幎代ïŒïŒDDRæ¶ä»£çåŒå¯ïŒDDRå°DDR4ïŒïŒååšå®¹éä»64Mbitå°16GbitïŒå¶çšå·¥èºè¿å ¥çº³ç±³çº§å«ãDRAMçç°ä»£åå±ïŒ2020幎代è³ä»ïŒïŒDDR5çæšåºïŒé床æŽå¿«ãå®¹éæŽå€§ïŒïŒHBMçåŽèµ·ïŒAIè®ç»çé«åžŠå®œéæ±ïŒïŒå¶çšå·¥èºè¿å ¥10纳米级å«ãDRAMææ¯çåå±äžæ©å°å®åŸçާå¯çžå ³ïŒæ¯äžæ¬¡å·¥èºèç¹çæšè¿éœåžŠæ¥äºååšå¯åºŠåé床çæåã
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